一、产品基础信息

1. 原料配方：高纯长链 PFPE 全氟聚醚基础油 + 可溶性氟系 XP 抗磨防锈复合添加剂，无矿物油、硅油、重金属、碳氢杂质

2. 外观：浅琥珀色透明液体，无异味，长期存放轻微变色不影响性能

3. 产品定位：中高粘度半导体专用氟化真空泵油，带长效防锈抗磨配方，国产平替进口产品；相比 P-1506XP 粘度更高、油膜更厚、极限真空更低

4. 保质期：未开封密封储存 3 年，开封后建议 6 个月内用完，避免水汽侵入失效

二、核心理化参数

三、五大核心性能优势

1. 更低饱和蒸气压，杜绝晶圆污染分子链更长，挥发分远低于低粘度 1506XP，高真空腔体长期运行无油蒸汽返流，不污染芯片、光学镜片，适配半导体百级无尘车间、精密镀膜设备。

2. XP 双重防护：抗磨 + 长效防锈专用可溶性氟系添加剂，真空泵叶片、轴承磨损大幅降低；潮湿水汽、酸碱废气工况形成致密防锈膜，隔绝水汽腐蚀泵体，延长真空泵换油周期 2~3 倍。

3. 强化学惰性，耐受腐蚀工艺不与蚀刻强酸强碱、氟气、氯气、等离子、电解液有机溶剂发生反应，长期使用无油泥、无积碳分解，适配半导体腐蚀制程、化工真空机组。

4. 高粘度厚油膜，重载真空泵适配相比 P-1506XP 油膜承载力更强，适合大流量、重载、高腐蚀真空泵，高温工况不易流失，极限真空长期稳定不衰减。

5. 宽温稳定，高低温启停顺畅-30℃低温环境真空泵启动阻力小；190℃连续高温运行挥发损耗极低，冷热冲击工况性能无明显衰减。

四、适用行业与设备场景

1. 半导体晶圆制造

PVD/CVD 镀膜机、等离子蚀刻机、离子注入设备、晶圆清洗真空机组、腐蚀工艺油式氟化真空泵。

2. 光学精密镀膜

光学镜片真空蒸镀、科研高真空分析仪器、电子扫描显微镜真空泵。

3. 化工腐蚀真空设备

强酸碱蒸馏真空机组、氟化物 / 氯气回收真空泵、电镀腐蚀真空槽配套泵体。

4. 新能源锂电行业

锂电池真空烘烤、注液、化成真空机组，耐受锂电电解液有机溶剂腐蚀。

5. 航空航天真空测试

高低温真空环境试验箱、氧气系统真空密封泵、太空模拟真空设备。

五、使用禁忌与注意事项

1. 严禁混用：不可与矿物真空泵油、普通硅油、无添加 PFPE 基础油混合，混用会破坏 XP 防锈抗磨添加剂体系，润滑与防锈性能直接失效；更换油品前需排空旧油并彻底清洗泵腔。

2. 温度限制：不可长期持续运行温度超过 190℃，高温会加速 XP 添加剂消耗，缩短油品使用寿命。

3. 活泼金属限制：避免长期接触金属钠、钾等强还原性碱金属，会产生轻微化学反应。

4. 食品医药场景：含功能性 XP 添加剂，不推荐用于直接接触食品、药品的工况，食品级真空场景选用无添加 VPF 基础款。

六、包装规格

小样：50g/100g 金属分装瓶；标准：1L 密封金属瓶；工业大包装：5kg/20kg 铁桶，支持定制分装。